Maskenlose Plasmatexturierung von Siliziumnitrid (Black SiN)
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Eine große Photovoltaikanlage spiegelt den Himmel.
Maskenlose Plasmatexturierung von Siliziumnitrid
Was ist Black SiN und wie macht es Solarzellen noch effektiver? In dem aktuellen Forschungsprojekt Black SiN forschen Prof. Bernhard und sein Team von wissenschaftlichen Mitarbeitern an der Verringerung des Reflexionsgrades – und damit einer verbesserten Lichtaufnahme – von industriellen Silizium-Solarzellen. In Kooperation mit dem Fraunhofer-Center für Silizium-Photovoltaik CSP in Halle (Saale) wird im Rahmen des Projektes an der maskenlosen Plasmatexturierung von Siliziumnitrid-Schichten geforscht, ohne den darunter liegenden Silizium-Wafer zu beschädigen. Aus der erhöhten Lichtabsorption folgt eine Verbesserung des Solarzellenwirkungsgrades. Das zum Patent angemeldete Verfahren soll schlussendlich auf die industrielle Produktion übertragen werden.
Das vom Land Sachsen-Anhalt geförderte EFRE-Projekt wurde zunächst für die Laufzeit vom 01.04.2018 bis zum 31.03.2020 genehmigt und wurde im März 2020 aufwands- und kostenneutral bis zum 31.05.2020 verlängert.
