Projekt

IP-Schutz - Hochauflösende Material- und Dünnschicht-Analytik für >>next generation<< Solarzelltechnologien zum Schutz geistigen Eigentums für deutsche und europäische Marktteilnehmer

Titel: IP-Schutz - Hochauflösende Material- und Dünnschicht-Analytik für >>next generation<< Solarzelltechnologien zum Schutz geistigen Eigentums für deutsche und europäische Marktteilnehmer

Beschreibung: Im Rahmen des vorliegenden Projekts sollen (1) neue präparative Verfahren und (2) analytische Techniken für die hochauflösende Material- und Dünnschichtcharakterisierung für »next generation«-Solarzelltechnologien mit einem Fokus auf den Grenzflächen entwickelt werden. Angestrebt werden beispielsweise innovative Verfahren zur großflächigen Präparation und hochauflösenden Charakterisierung von verkapselten Schichten, zur Lokalisierung von mikroskopischen Strompfaden und zur Bewertung von lokalen Passivierungseigenschaften. Diese Methoden sollen mit vereinfachten und schnellen Messverfahren korreliert und in die routine-taugliche Anwendung gebracht werden.

Laufzeit: 01.04.2024 - 31.03.2027

Fördermittelgeber: Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz

Förderprogramm: 7. Energieforschungsprogramm der Bundesregierung

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